工作原理
等离子清洗机(plasma cleaner)也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、涂覆等目的。
产品特点
触摸屏操作界面
数字及图标多重工艺参数实时显示
三色灯异常报警功能
自动/手动操作模式切换
可存储多套工艺配方
远程操控，数据导出（可选）
特殊电极、气路设计，均匀性好
平板式、滚轮式载具平台（可选）
适用半导体封装引线框架的批量处理
应用领域
适合于半导体行业的表面处理
适用于制作车间、生产线等多个场合
多料盒的模式，能够高效的处理材料
产品参数
型号 |
VPC-500F |
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控制系统 |
控制方式 |
全自动控制（自动/手动切换） |
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PLC（标配）/PC（可选） |
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操作系统 |
Windows 10 |
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触摸屏 |
7寸 |
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整机规格 |
尺寸 |
W920×D1030×H1720mm |
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腔体 |
尺寸 |
W435×D425×H540mm |
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材质 |
铝合金（标配）/不锈钢（可选） |
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电极 |
结构 |
组合柜式 |
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分隔数量 |
4个料盒 |
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托架 |
材质 |
铝合金（标配）/不锈钢（可选） |
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形状 |
平板式/滚轮式（可选） |
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真空计 |
皮拉尼式真空计 |
1个 |
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流量计 |
MFC质量流量控制器 |
2个；Ar、N2、H2（可选） |
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真空泵 |
机械油式旋片泵 |
1套 |
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发生器 |
中频/射频 |
40KHz，0~1000W |
13.56MHz，0~500W |
额定功率 |
整机峰值功率 |
5KW |
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机台供电 |
三相五线式 |
AC-380V |
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选购品 |
干式泵、双级旋片真空泵+罗茨泵（泵组）、托架、温度传感器、H2安全阀、慢速泄气阀、慢速抽气阀、钢瓶减压阀、非标法兰、陶瓷紧固件 |
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