在真空状态下，压力越来越小，分子间间距越来越大，分子间力越来越小，等离子清洗设备利用高频源产生的高压交变电场将氧、氩、氢、四氟化碳等工艺气体震荡成具有高反应活性或高能量的等离子体，然后与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，然后由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁、活化等目的。如图所示：
真空室自动开关，一键式启停，操作简单方便
真空室内置张力控制系统，稳定材料涨缩，使处理更加平稳
高性能等离子发生器，激发更为稳定之等离子体
水平电极结构设计，更适合柔性材料
采用中通水冷电极，真正实现过程温度控制，均衡均一
独特的卷曲设计，解决卷式材料穿料问题，牵引材料更便捷
精确速度控制，精准控制速度的同时，实现恒张力恒速度
柔性材料的表面清洗、表面活化、表面粗表面刻蚀等
塑胶薄膜、金属薄膜等水平卷式连续处理可绕折的卷材
型号 |
RTR100L-W500 |
|
控制系统 |
控制方式 |
全自动控制（自动/手动切换） |
PLC（标配）/PC（可选） |
||
操作系统 |
Windows 10 |
|
触摸屏 |
7寸 |
|
整机规格 |
尺寸 |
W6900×D1650×H1150mm |
腔体 |
处理宽幅 |
<520mm |
材质 |
铝合金（标配）/不锈钢（可选），腔体3段式 |
|
冰水机 |
通路 |
用于电源、电极、真空泵浦的冷却 |
供电 |
AC380V、3PH、50/60Hz、3KW |
|
蚀刻能效 |
速率 |
≥0.5µm/Min |
均匀性 |
≥90% |
|
真空计 |
薄膜硅电容耐腐蚀 |
1个，0-10Torr |
流量计 |
MFC质量流量控制器 |
4个，量程0-2000ml/min |
真空泵 |
干泵机组（螺杆泵+罗茨泵） |
1套，120m3/h+1800 m3/h；极限真空值≤50mTorr |
发生器 |
中频 |
40KHz，20KW |
温度控制系统 |
过程温度控制 |
30-150℃恒定可控 |
张力控制系统 |
数显张力 |
- |
其它 |
工艺气体：14MPa减压至0.3MPa，O2=9.99%;Ar=99.99%;N2=99.99%;CF4=99.999% 气体压力：0.2MPa≤气源≤1MPa；气源压力：0.3-0.8MPa；气源纯度：无油无水干燥气体；工作环境温度：≤30℃；冻水流量：5 SLM；干燥Air/N2流量：17 SLM |
|
