等离子清洗系统通过等离子体工艺进行表面处理的设备，通常有等离子发生器、反应室、真空泵、气体供应系统、设备控制系统等模块组成，主要用于解决材料表面处理问题，如：表面有机污染物、氧化物、碳化物等等。
等离子清洗系统特点
1、等离子清洗以气体为原材料进行处理，是干式处理工艺，不会产生废水，减少污染；
2、等离子清洗系统操作简单，通过控制系统就能对各类参数进行操作，方便进行工作；
3、等离子清洗应用广泛，金属、玻璃、薄膜材料、高分子材料、布料、陶瓷、塑料等等材料都能进行处理；
4、等离子清洗系统成本较低，购买后使用维护费用低，使用寿命长，清洗消耗也只有电力和气体，节省了清洗成本。
等离子清洗系统参数
设备型号：PM/R-80LN
操作系统：PLC（标配）/PC（可选）
整机规格：W850×D1100×H1700mm
腔体规格：W450×D400×H450mm
等离子发生器：40KHz，0~1000W
机台供电：三相五线式
选购品：慢速泄气阀、慢速抽气阀、钢瓶减压阀、水冷电极、冰水机、模温机、非标法兰、陶瓷紧固件。
以上为PM/R-80LN型号的等离子清洗系统参数，需要注意的是，等离子清洗系统一般为非标制品，厂家需要根据用户的需求进行定制。
