晶圆在半导体中的重要性大家应该都知道，随着工艺以及技术的不断进步，对晶圆的需求以及要求越发严格，今天我们来聊聊晶圆等离子清洗机能够发挥什么样作用？
1、晶圆等离子清洗机
为了符合晶圆生产工艺需求制作的设备，在设计、应用等方面需要满足晶圆工艺的特殊需求；如：晶圆是圆形的，我们在腔体设计及工作区域设计需要考虑到这一点；晶圆表面清洁度要求，对整个处理环境有要求等等；所以晶圆等离子清洗机与常规的等离子清洗机设备是不一样的。
2、晶圆等离子清洗机优势
2-1：能够解决表面清洗难题的同时提供改性活化作用，方便后续黏晶、封胶、点胶等等工艺；
2-2：附着力的提高可以让粘接更加牢固，减少分层，杜绝气泡；
2-3：通过激光工艺打穿的小孔，溶剂难以清洗，而等离子体可以轻松进入；
晶圆等离子清洗机在晶圆工艺中作用远远不止这些，晶圆片等离子清洗机可用于成批剥离，材料包括光致抗蚀剂，氧化物，氨化物蚀刻，电介质。硅片去除污染物和氧化物，提高粘接率和可靠性等等。正是这种普适性的应用让等离子清洗工艺快速发展，解决一个个难题。
