那这种等离子体是怎样一种物体呢？其实等离子体是区别于固体、液体和气体的另一种物质聚集态，人们称之为物质存在的第四种状态。它由电离的导电气体组成，其中包括六种典型的粒子，即电子、正离子、负离子、激发态的原子或分子、基态的原子或分子以及光子。
而同样参与进处理过程当中的抛光液，其实就是低浓度的盐溶液，并可通过补充抛光盐而循环使用，能够解决机械抛光难于加工形状复杂工件的问题，也可以解决化学和电解抛光难以避免的污染问题，溶液不参加化学反应。并且成本低，与传统的化学电解抛光相比，成本非常低。
等离子抛光工艺是一种全新的金属表面处理工艺,仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-4.5纳米。而抛光物的表面粗糙度在1毫米范围内，因此在等离子抛光处理工件表面时，仅去除表面分子污染层，交叉链接表面化学物质。
其中等离子抛光工艺的流程为：
1、上挂工序：先将工件装上挂具；
2、上架工序：把挂具挂在电镀架上；
3、电浆抛光工序：将工件和挂具一并放进电浆液缸中进行电浆抛光，电浆液的工作温度为70~100℃，工作时间为30~1800℃，抛光的过程中会旋转180度；
4、下架工序：将挂具从电镀架上取下；
5、水洗工序：将取下的挂具放入水中清洗；
6、烘烤工序：将经过超声波纯水工序的工件放进烤箱进行烘烤，烤箱内的温度为60~120℃，烘烤的时间为360~480S；
7、下挂工序：最后将烘烤完成后的工件从挂具取下，形成工件成品。
处理完毕之后我们可以明显地看到工件的表面发生了性能变化，并且处理工艺最突出的优势体现在工件的质量高，这主要是由于等离子处理层次的细致导致的。这也是许多厂家选择这一处理工艺的重要原因。
